MBEセルのラインアップ

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エフュージョンセル

一般的なストレートウォールタイプのルツボを使用することにより、コストを抑えた中間蒸気圧材料蒸着用のセルです。低価格でありながらデュアルヒーター構造を採用しており、ルツボのトップとボトムを独立に加熱することができます。ルツボ開口部に生じがちな温度低下をなくすことでルツボ開口部への材料の凝縮を防止できるため、凝縮材料の落下に起因する膜質低下を防ぎます。さらに、擬似的にルツボの開口を狭くするクヌーセンキャップを装着することで、より安定したレートが得られるとともに、溶融材料の沸騰や気泡の破裂により生じる液滴飛散に起因した膜質の低下を抑えます(キャップ使用時は最高使用温度が低くなります)。


20cc エフュージョンセル(S-ESR20-CF70)

クヌーセンキャップ装着
クヌーセンキャップ装着イメージ

エフュージョンセル



低温エフュージョンセル


ドーパンキャップ
装着イメージ

Zn、Te、Srなどの高蒸気圧材料を安定して蒸着するためには低温での温度制御性が重要になります。低温エフュージョンセルは高蒸気圧材料の蒸着に適した低温での使用を目的としており、低温領域での温度制御性を高める構造を有しています。その他の特徴は標準エフュージョンセルに準拠します。

低温エフュージョンセル


高温エフュージョンセル

高温エフュージョンセル
高温エフージョン
構造イメージ

低蒸気圧材料の蒸着に使用する高温加熱タイプのセルです。Wフィラメントを保持する絶縁ガイシ(PBN)をフィラメント位置から可能な限り離して設置することにより、高温部はWとTaの高融点材料のみにより形成されています。そのため最高2000℃(蒸着材料によって制限あり)までのクリーンな動作を可能にします。一般的なE-gun蒸着ソースと比較して高い蒸着レートの安定性が得られます。広範囲の分子線フラックスが得られるタイプ(6cc)と容量の大きなタイプ(10cc)をラインアップしていますので、ご使用目的に合わせて選択できます。使用する材料により最適なルツボ材質とライナーを提供しています。

高温エフュージョンセル


クラッキングエフュージョンセル

As、P、SbなどのⅤ族元素を通常のエフュージョンセルで蒸発させた場合に発生するAs4、P4、Sb4フラックスをクラッキングすることにより、As2、P2、Sb2の分子線を得ることのできるセルです。ルツボ部は低温加熱により安定したフラックスを発生させ、クラッキングゾーンのみを高温で加熱できるようにしています(詳細情報をご希望の方は弊社へお問い合わせ下さい)。


ドーパントエフュージョンセル

分子線
コニカルルツボによる分子線のイメージ

ルツボのテーパーが大きため分子線の広がりが大きく、基板全面への微少蒸着を容易にします。

ドーパントの蒸着に適したドーピング用のセルです。少ない材料を非常に低いレートで蒸着する目的での使用に対して優れた性能を発揮します。ルツボにテーパーの大きなコニカルタイプルツボを使用することで、広い範囲に均一なフラックス分布を発生しています(左図参照)。

ドーパントエフュージョンセル


クヌーセンセル

クヌーセンセル
TAITONECK ルツボ
 

開口部を狭く絞ったTAITONECKルツボの使用により、本来のKnudsenの原理に基づいたレート安定性を実現しています。さらにデュアルフィラメント構造による加熱最適化によりエフュージョンセルと比較してより高い分子線の安定性を実現します。大容量のものまでラインアップしているため、一回の充填量を大きくすることができ、研究用から小規模生産用まで幅広く対応します。ルツボは熱伝導性に優れたSiC製をラインアップしています。SiCルツボと使用する蒸着材料との適正関係については、弊社へお問い合わせ下さい。なお、本クヌーセンセルにはVeeco社のSUMOルツボが使用可能です。

クヌーセンセル


低温クヌーセンセル

低温クヌーセンセルは高蒸気圧材料の蒸着に適した低温使用設計であり、低温領域での温度制御性を高める構造を有しています。その他の特徴は標準クヌーセンセルに準拠します。

低温クヌーセンセル

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